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Mitutoyo三丰物镜 M Plan Apo NIR / M Plan Apo NIR HR / M Plan Apo NIR B

半导体量测 先进封装测试 显示面板检测 PCB线路板检测 工业高倍显微物镜

M Plan Apo NIR(标准型,明视场近红外校正)
核心特点:无限远校正、平场复消色差、480–1800nm宽波段色差校正、超长工作距离。
M Plan Apo NIR HR(高分辨率型)
核心特点:标准 NIR 的高分辨率版,NA 更高、分辨率提升约 50%,480–1800nm 校正。
M Plan Apo NIR B(激光增强型)
核心特点:532nm/1064nm 透过率优化,420–1064nm 色差校正,超长 WD,适配 Nd:YAG 激光加工。

半导体量测 先进封装测试 显示面板检测 PCB线路板检测 工业高倍显微物镜

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一、M Plan Apo NIR(标准型,明视场近红外校正)

核心特点:无限远校正、平场复消色差、480–1800nm宽波段色差校正、超长工作距离。

image

型号倍率NA工作距离 WD (mm)焦距 f (mm)分辨率 R (μm)焦深 DF (μm)φ24 视场 (mm)重量 (g)
378-822-5      5×         0.14        37.5                            40                  2.0                     14.0                   φ4.8                       220
378-824-1620×0.4020.0100.61.7φ1.2300
378-825-550×0.4213.040.71.6φ0.48315
  • 安装:M26×36TPI,齐焦距离 95mm。
  • 适用:半导体 / 晶圆检测、激光修复、480–1800nm 明视场观察。

二、M Plan Apo NIR HR(高分辨率型)

核心特点:标准 NIR 的高分辨率版,NA 更高、分辨率提升约 50%,480–1800nm 校正。image

型号倍率NAWD(mm)f(mm)R(μm)DF(μm)φ24 视场 (mm)重量 (g)
378-854-5     20×      0.60     12.0             10            0.46         0.8            φ1.2                         470
378-863-550×0.6510.040.400.7φ0.48450
378-864-5100×0.706.020.400.6φ0.24450
  • 适用:高精度半导体检测、微细结构观察、近红外高分辨率成像。

三、M Plan Apo NIR B(激光增强型)

核心特点532nm/1064nm 透过率优化,420–1064nm 色差校正,超长 WD,适配 Nd:YAG 激光加工。
型号倍率NAWD(mm)f(mm)R(μm)DF(μm)φ24 视场 (mm)重量 (g)
378-867-5      20×     0.40     25.5             10           0.6          1.7            φ1.2                        315
378-868-550×0.4225.540.71.6φ0.48315
  • 适用:激光切割 / 修边、半导体晶圆 / 电路加工、532/1064nm 激光应用。

四、共同规格(三款通用)

  • 校正波段:NIR/NIR HR:480–1800nm;NIR B:420–1064nm。
  • 光学设计:无限远校正、平场复消色差(Plan Apo)。
  • 机械接口:M26×36TPI,齐焦距离 95mm,最大直径 φ37mm。
  • 使用环境:明视场(Brightfield),适配 VMU/FS-70/FS70L/VMU-L 显微镜。

五、选型速览

  • 标准近红外观察:选 M Plan Apo NIR(5×/20×/50×,长 WD)。
  • 高分辨率近红外:选 M Plan Apo NIR HR(更高 NA,分辨率≈0.4μm)。
  • 532/1064nm 激光加工:选 M Plan Apo NIR B(透过率优化,WD=25.5mm)。


Mitutoyo三丰物镜 M Plan Apo NIR / M Plan Apo NIR HR / M Plan Apo NIR B
M Plan Apo NIR(标准型,明视场近红外校正)
核心特点:无限远校正、平场复消色差、480–1800nm宽波段色差校正、超长工作距离。
M Plan Apo NIR HR(高分辨率型)
核心特点:标准 NIR 的高分辨率版,NA 更高、分辨率提升约 50%,480–1800nm 校正。
M Plan Apo NIR B(激光增强型)
核心特点:532nm/1064nm 透过率优化,420–1064nm 色差校正,超长 WD,适配 Nd:YAG 激光加工。
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